Microtrac納米粒度分析儀
公司介紹:
美國麥奇克有限公司(Microtrac Inc.)是世界上*的激光應用技術研究和制造廠商,其*的激光粒度分析儀已廣泛應用于水泥,磨料,冶金,制藥,石油,石化,陶瓷,*等領域,并成為眾多行業的質量檢測和控制的分析儀器。Microtrac Inc.公司非常注重技術創新,近半個世紀以來,一直著激光粒度分析的前沿技術,可靠的產品和強大的應用支持及完善的售后服務,使得其不斷超越自我,推陳出新,。
儀器簡介:
納米粒度測量——動態光背散射技術
隨著顆粒粒徑的減小,例如分子級別的大小,顆粒對光的散射效率急劇降低,使得經典動態光散射技術的自相關檢測(PCS)變得更加不確定。40多年來,Microtrac公司一直致力于激光散射技術在顆粒粒度測量中的應用。作為行業的先鋒,早在1990年,超細顆粒分析儀器 UPA(UltrafineParticle Analyzer)研發成功,*引入由于顆粒在懸浮體系中的布朗運動而產生頻率變化的能譜概念,快速準確地得到被測體系的納米粒度分布。2001年,利用背散射(Back-scattered)和異相多譜勒頻移(HeterodyneDoppler Frequency Shifts)技術,結合動態光散射理論和*的數學處理模型,NPA150/250將分析范圍延伸至0.3nm-10μm,樣品濃度更可高達百分之四十,基本實現樣品的原位檢測。異相多普勒頻移技術采用可控參考穩定頻率,直接比照因顆粒的布朗運動而產生的頻率漂移,綜合考慮被測體系的實時溫度和粘度,較之于傳統的自相關技術,信號強度高出幾個數量級。另外,新型“Y”型梯度光纖探針的使用,實現了對樣品的直接測量,*的減少了背景噪音,提高了儀器的分辨率。
測量原理:
粒度測量:動態光背散射技術和全量程米氏理論處理
分子量測量:水力直徑或德拜曲線
光學系統:
3mW780nm半導體固定位置激光器,通過梯度步進光纖直接照射樣品,在固定位置用硅光二極管接受背散射光信號,無需校正光路
軟件系統:
*的Microtrac FLEX軟件提供強大的數據處理能力,包括圖形,數據輸出/輸入,個性化輸出報告,及各種文字處理功能,如PDF格式輸出, Internet共享數據,Microsoft Access格式(OLE)等。體積,數量,面積及光強分布,包括積分/微分百分比和其他分析統計數據。數據的完整性符合21 CFR PART 11安全要求,包括口令保護,電子簽名和*等。
外部環境:
電源要求:90-240VAC,5A,50/60Hz
環境要求:溫度,10-35°C
標準:符合ISO13321,ISO13099-2:2012 和 ISO22412:2008
主要特點:
? 采用的動態光散射技術,引入能普概念代替傳統光子相關光譜法
? 的異相多譜勒頻移技術,較之傳統的方法,獲得光信號強度高出幾個數量級,提高分析結果的可靠性。
? 的可控參比方法(CRM),能精細分析多譜勒頻移產生的能譜,確保分析的靈敏度。
? 超短的顆粒在懸浮液中的散射光程設計,減少了多重散射現象的干擾,保證高濃度溶液中納米顆粒測試的準確性。
? 的快速傅利葉變換算法(FFT,Fast FourierTransform Algorithm Method),迅速處理檢測系統獲得的能譜,縮短分析時間。
? 膜電極設計,避免產生熱效應,能準確測量顆粒電泳速度。
? 消除多種空間位阻對散射光信號的干擾,諸如光路中不同光學元器件間傳輸的損失,樣品池位置不同帶來的誤差,比色皿器壁的折射與污染,分散介質的影響,多重散射的衰減等,提高靈敏度。
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