Leica EM TIC 3X 三離子束切割儀
新版 EM TIC 3X 恪守我們的格言：與用戶合作，使用戶受益”，以注重實用性的方式將性能和靈活性理想融合。
的 EM TIC 3X 切割速度翻倍，根據您的應用需求提供五種不同的載物臺供您選擇，實用性得到進一步提升。
Leica EM TIC 3X 三離子束切割儀可制備橫切面和拋光表面，用于掃描電子顯微鏡 (SEM)、微觀結構分析 (EDS、WDS、Auger、EBSD) 和 AFM 科研工作。
使用 Leica EM TIX 3X，您幾乎可以在室溫或冷凍條件下，對任何材料實現高品質的表面處理，盡可能顯示樣品近自然狀態下的內部結構。
對于離子束研磨機的效率來說，真正重要的是同時具備出色的品質結果和高產量。與前代版本相比，全新版本不僅切割速度提高了一倍，其*的三離子束系統還優化了制備質量，并縮短了工作時間。一次可處理樣品多達 3 個， 并可在同一個載物臺上進行橫切和拋光。
工作流程解決方案可安全、高效地將樣品傳輸至后續的制備儀器或分析系統。
憑借可靈活選擇的載物臺，Leica EM TIC 3X 不僅是進行高產量處理的理想設備，還適用于委托檢測的實驗室。根據您的需求，可選擇以下可互換的載物臺對 Leica EM TIC 3X 進行個性化配置：
用于制備標準樣品、高產量處理，以及在低溫條件下制備對高溫異常敏感的樣品，例如聚合物、橡膠或生物材料。
憑借與 Leica EM TIC 3X 配套的 VCT 對接臺接口，可為易受環境影響的樣品和/或低溫樣品提供出色的刨平工作流程，此類樣品包括
隨后，這些樣品會在惰性氣體/真空/冷凍條件下，被傳輸至我們的鍍膜系統 EM ACE600 或 EM ACE900 和/或 SEM 系統。
在使用 Leica EM TIC 3X 之前，通常需要進行機械準備工作，以便盡可能接近感興趣區域。Leica EM TXP 是一種*的標靶面拋光系統，開發用于樣品的切割和拋光，為 Leica EM TIC 3X 等儀器進行后續技術處理做好充分準備
Leica EM TXP 經專業設計，利用鋸切、銑削、研磨和拋光技術對樣品進行預制。 對于需要精準定位以及難以制備的挑戰性樣品，它能提供出色的結果，令處理變得輕松簡單。
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