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nanoArch P140是可以實現實現高精度微尺度3D打印的設備系統，它采用的是面投影微立體光刻（PμSL：Projection Micro Stereolithography）技術。該技術使用高精密紫外光刻投影系統，將需打印圖案投影到樹脂槽液面，在液面固化樹脂并快速微立體成型，從數字模型直接加工三維復雜的模型和樣件，完成樣品的制作。該技術具備成型效率高、打印精度高等突出優勢，被認為是目前前景的微納加工技術之一。
nanoArch P140是可以實現實現高精度微尺度3D打印的設備系統，它采用的是面投影微立體光刻（PμSL：Projection Micro Stereolithography）技術。該技術使用高精密紫外光刻投影系統，將需打印圖案投影到樹脂槽液面，在液面固化樹脂并快速微立體成型，從數字模型直接加工三維復雜的模型和樣件，完成樣品的制作。該技術具備成型效率高、打印精度高等突出優勢，被認為是目前前景的微納加工技術之一。
| 光源 UV-LED(405nm) | 打印材料 光敏樹脂 | 光學精度 10μm | ||
| XY打印精度 10~ 40μm | 打印層厚 10~40μm | 打印樣品尺寸 19.2mm（L）*10.8mm（W）*45mm（H） | ||
| 打印文件格式 STL | 系統外形尺寸 1000mm(L)×700mm(W)×1600(H)mm3 | 機器外形尺寸 650mm(L)×650mm(W)×750(H)mm3 | ||
| 重量 300kg | 電氣要求 200~240V AC,50/60HZ,3KW | 其他要求 部分工藝可選配加速模塊及涂層模塊 | ||
| 設備功率 2000W | ||||
注：①、樣品高度典型10mm，45mm
丙烯酸類光敏樹脂，比如HDDA，PEGDA等。
405nm固化波段的光敏樹脂材料 ，支持透明樹脂，柔性樹脂，硬性樹脂，納米顆粒摻雜復合樹脂，4D打印樹脂，生物醫療樹脂等，需適配不同的工藝和模型，不保證打印性能
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