|
|
|
|
|
|
nanoArch S140是可以實現實現高精度大幅面微尺度3D打印的設備系統，它采用的是面投影微立體光刻（PμSL：Projection Micro Stereolithography）技術。該技術使用高精密紫外光刻投影系統，將需打印圖案投影到樹脂槽液面，在液面固化樹脂并快速微立體成型，從數字模型直接加工三維復雜的模型和樣件，完成樣品的制作。該技術具備成型效率高、打印精度高等突出優勢，被認為是目前前景的微納加工技術之一。
nanoArch S140是可以實現實現高精度大幅面微尺度3D打印的設備系統，它采用的是面投影微立體光刻（PμSL：Projection Micro Stereolithography）技術。該技術使用高精密紫外光刻投影系統，將需打印圖案投影到樹脂槽液面，在液面固化樹脂并快速微立體成型，從數字模型直接加工三維復雜的模型和樣件，完成樣品的制作。該技術具備成型效率高、打印精度高等突出優勢，被認為是目前前景的微納加工技術之一。
| 光源 UV-LED(405nm) | 打印材料 光敏樹脂 | 光學精度 10μm |
| XY打印精度 10~40μm | 打印層厚 10~40μm | 打印樣品尺寸 Mode Single：19.2mm*10.8mm*45mm |
| 樣品高度 10mm in typical； | 打印速度 288~1152mm3/h | 打印文件格式 STL |
| 設備功率 3000W | 系統外形尺寸 主機：650(L)*650(W)*750mm(H) | 重量 300kg |
丙烯酸類光敏樹脂，比如HDDA，PEGDA等。
405nm固化波段的光敏樹脂材料 ，支持透明樹脂，柔性樹脂，硬性樹脂，納米顆粒摻雜復合樹脂，4D打印樹脂，生物醫療樹脂等，需適配不同的工藝和模型，不保證打印性能
|
|
|
|
|
|
*您想獲取產品的資料：
個人信息：
