PlasCalc等離子體監測控制儀，實現200nm-1100nm波段內的等離子體測量，通過高級過程控制系統及精密數據存取算法，只需3m就可以獲得測量結果

PlasCalc等離子體監測控制儀，實現200nm-1100nm波段內的等離子體測量，通過高級過程控制系統及精密數據存取算法，只需3m就可以獲得測量結果。

特點

• 光學分辨率1.0nm(FWHM)
• 光譜范圍 200-1100nm
• 快速的建模及存儲實驗方法

Recipe編輯器

Recipe編輯器有助于簡單快捷的配置、構建及存儲實驗方法。對一些困難的等離子體工序諸如膜沉積測量、等離子體蝕刻監測、表面潔度監測、等離子體室控制及異常污染、排放監測等，能夠快速簡單的構建模塊過程控制。

多種工具用于等離子體診斷

隨PlasCalc配置的操作軟件，集成的程式編輯器能夠容易實現多種數學算法功能。可選的波長發生器（可以單獨購買）用于類型確認，而波長編輯器可以用于優化信噪比。雙窗口界面用于顯示實際光譜及所有過程控制信息。

PlasCalc 配置說明