儀器簡介：LCL-13型薄膜測厚儀根據多次反射光譜相干原理，本儀器可提供非接觸測量薄膜厚度，折射率，吸收系數等；采用軟件版本，具有納米級精確測量和方便使用等優點；測量方便度和準確度遠好于常用光學橢偏儀
儀器簡介：
LCL-13型薄膜測厚儀根據多次反射光譜相干原理，本儀器可提供非接觸測量薄膜厚度，折射率，吸收系數等；采用軟件版本，具有納米級精確測量和方便使用等優點；測量方便度和準確度遠好于常用光學橢偏儀。是薄膜研究，光學鍍膜，和半導體生產的測量研究儀器。
實驗內容：
1、學會薄膜和涂層的厚度測量及折射率和吸收系數的測定
主要配置和參數：
序號 | 名稱 | 規格和參數 |
1 | 厚度范圍 | 20nm-50um(只測膜厚），100nm-10um(同時測量膜厚和光學常數n,k）根據薄膜材料的種類，其范圍有所不同 |
2 | 準確度 | <1nm或<0.5% |
3 | 重復性 | 0.1nm |
4 | 波長范圍 | 380nm-1000nm |
5 | 可測層數 | 1-4層 |
6 | 樣品尺寸 | 樣品鍍膜區直徑>1.2mm |
7 | 測量速度 | 5s-60s |
8 | 光斑直徑 | 1.2mm-10mm可調 |
9 | 樣品臺 | 290mm*160mm |
10 | 光源 | 長壽命溴鎢燈（2000h） |
11 | 光纖 | 純石英寬光譜光纖 |
12 | 探測器 | 進口光纖光譜儀 |
13 | 電源 | AC100V-240V,50Hz-60Hz |
14 | 重量 | 18kg |
15 | 尺寸 | 300mm*300mm*350mm |
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