全譜直讀光譜儀TY-9000采用標準的設計和制造工藝技術，采用全數字化技術，替代龐大的光電倍增管（PMT）模擬技術，與光譜儀技術同步，采用真空光學室設計及全數字化激發光源、*的CCD檢測器、高速數據讀出系統，使儀器具有*的性能、極低的檢出線、*的穩定性和重復性。
適用于金屬制造業、加工業及金屬冶煉業用于質量監控、材料牌號識別、材料研究和開發的主要設備之一。

應用領域：冶金、鑄造、機械、科研、商檢、汽車、石化、造船、電力、航空、核電、金屬和有色冶煉、加工和回收工業中的各種分析。

檢測基體：鐵基、銅基、鋁基、鎳基、鈷基、鎂基、鈦基、鋅基、鉛基、錫基、銀基。

技術參數：

光學系統：帕型-龍格羅蘭圓全譜真空型光學系統；

波長范圍：170-580nm

焦距：400mm

探測器：高性能CCD陣列

光源類型：數字光源，高能預燃技術（HEPS）

放電頻率：100-1000Hz

放電電流：400A

工作電源：220VAC 50/60Hz

儀器尺寸：720*860*500mm

儀器重量：約100kg（不含真空系統）

檢測時間：依據樣品類型而定，一般25S左右

電極：鎢材噴射電極

分析間隙：真空軟件自動控制、監測

技術特點：

1.高性能光學系統

2.自動光路校準

3.單板式透鏡設計

4.真空室一體化

5.真空防返油技術

6.開放式激發臺

7.噴射電極技術

8.集成氣路模塊

9.全數字化激發光源

10.高速數據采集

11.以太數據傳輸

12.預制工作曲線

13.分析速度快捷

14.多基體分析

15.軟件多國語言

光學系統

帕型-龍格結構的全譜光學系統

波長范圍（130～850）nm

多個高性能CCD探測器

一體化光學室加工成型，動態羅檔園安裝，耐環境溫度變化

真空光室設計，保證C、S、P、N都能達到

光室恒溫控制，恒溫溫度為35℃

直射式光學技術及透鏡MgF2材料，保證C、S、P、N紫外波長的能量

樣品激發臺

集成氣路、噴射電極技術；

優化的氬氣氣路設計保證激發臺的有效冷卻和激發過程中產生的金屬粉塵有效進入過濾器；使樣品激發更加穩定，并大大減少了人體對金屬粉塵的攝入，有利于保護操作人員的健康；

更小的激發空間，使氬氣消耗更小；

便于使用的樣品夾具

具有電極自吹掃功能，使電極使用壽命更長、清潔電極更加容易

13mm的激發孔徑更利于樣品分析

開放式樣品激發臺可適應各種大小、更多形狀樣品的分析（含線材）；

單反式透鏡裝置設計，一般人員都能方便對激發臺進行維護和透鏡的清洗

激發光源

全新可調節數字化光源，頻率可達1000Hz；

高能預然技術（HEPS）；

優化設計的控制和功率電路，完善的激發安全保護功能

為不同分析目標提供火花、電弧或組合激發波形

放電電流：400A

數據采集系統

高性能ARM數據處理器，具有超高速數據采集及控制功能

高性能CCD固態檢測技術，波段內的譜線全譜接收

外置式計算機（用戶自選）

FPGA及高速數據通訊技術，數據讀入功能強大，檢測數據整體讀入時間短

分析軟件

基于Windows系統的多國語言的CCD全譜圖形化分析軟件，方便實用

*管理的控制整個測量過程及為用戶提供強大的數據處理能力和測試報告輸出能力

儀器可配置多條工廠校正曲線及更多材質分析及*解決方案

軟件實現全譜檢測、智能扣干擾、扣暗電流、背景和噪聲的算法，提高儀器的分析能力

完備的自動系統診斷功能

完善的數據庫管理功能，可方便查詢、匯總數據

智能校正算法，保證儀器穩定可靠

完備的譜線信息和干擾扣除算法，保證儀器分析更為精準

適應Windows操作系統

能夠自動完成數據采集、處理、生成office辦公軟件能接受的數據格式

實驗室環境

環境要求

儀器須放置在實驗室內，室內面積大于10平方米，并確保周圍無有害、易燃及腐蝕性的氣體。注意事項：禁止將本儀器置于化學分析實驗室內。

工作溫度：10℃～30℃，3小時內室溫波動小于2℃，要求實驗室安裝空調。

存儲溫度：0℃～45℃

環境相對濕度：20%～80%，對于潮濕地區，需配備一臺去濕機

全譜直讀光譜儀TY-9000的分光室裝在具有溫控裝置的箱體內，能在上述環境范圍內正常工作，若超出上述要求范圍，儀器的使用壽命和測量精度將受到影響

電源要求

電源：單相220±20V、1KVA的電源供電。

1kVA～3kVA的單相220V交流參數穩壓器。

為保證儀器可靠使用，用戶必須保證電網的PE保護地良好接地，且與其他大型設備的保護地分開。如果用戶不能保證PE良好接地，請為儀器單獨準備一根地線，要求接地電阻小于4歐姆。

氬氣要求

1.氬氣純度≥99.999%，含氧量≤2ppm，含H₂O量≤5ppm，（氬氣瓶不能露天存放，嚴禁雨淋）。如無高純氬氣，建議使用氬氣凈化器。

2.氬氣使用流量：待機流量 約0.1L/min，維持流量約（0.4-0.5）L/min，激發流量約3.5L/min。

3.氬氣控制壓力：0.5Mpa。

氬氣連接管

必須使用隨機提供的氬氣銅管連接。

排氣瓶

儀器排出的廢氣通過一根14mm內徑的PVC增強管排到隨機提供的過濾瓶中。需要及時清理更換以防止出氣不暢。

樣品制備

對于鋁基、銅基等有色金屬樣品必須使用車床制備樣品。

對于鐵基樣品必須使用磨樣機制備樣品，一臺磨樣機及一臺落地式砂輪機，用于鋼鐵試樣表面的打磨。鑄鐵樣品白口化必須均勻。

用戶需要準備一臺切割機，用于外型不適于光譜儀分析的樣品的處理；

被分析樣品必須均勻，無氣孔，無鑄造缺陷,制備必須達到表面平滑，無氧化層，無油污，樣品邊緣無毛刺。

標準樣品要求

隨機附贈一塊光譜校正標準樣品，用于校正儀器的整體光譜漂移。除此之外，用戶需準備適合自己產品類型的標準樣品或內控樣品，用于儀器分析曲線的校正。

PC和打印機要求
準備一臺當前常規配置的PC（筆記本和臺式機均可），要求內存1GB以上，CPU雙核1.8G Hz以上，用于安裝分析軟件。

準備一臺打印機，激光、噴墨或針式打印機均可，用于分析數據報表的打印。