【品牌故事】 
    世界光學品牌，可見光及電子光學的----德國蔡司公司始創于1846年。其電子光學前身為LEO（里奧），更早叫Cambridge（劍橋），積掃描電鏡領域40多年及透射電鏡領域60年的經驗，ZEISS電子束技術在世界上創造了數個：

    臺靜電式透射電鏡 (1949) 
      臺商業化掃描電鏡 (1965) 
      臺數字化掃描電鏡(1985) 
      臺場發射掃描電鏡(1990) 
      臺帶有成像濾波器的透射電鏡 (1992) 
      臺具有Koehler照明的 200kV 場發射透射電鏡(2003) 
      臺具有鏡筒內校正Omega能量濾波器的場發射透射電鏡(2003)

CARL ZEISS以其前瞻性*完美的設計融合歐洲*制造工藝造就了該品牌在光電子領域無可撼動的地位。自成立至今，一直延續不斷創新的傳統，公司擁有電鏡制造的專有技術，隨著離子束技術和基于電子束的分析技術的加入、是為您提供鎢燈絲掃描電鏡、場發射掃描電鏡、雙束顯微鏡(FIB and SEM)、透射電子顯微鏡等全系列解決方案的電鏡制造企業。其產品的高性能、高質量、高可靠性和穩定性已得到*廣大用戶的信賴與認可。作為電鏡標準的CARL ZEISS將一路*電鏡市場為您開創探求納米科技的嶄新紀元。

【技術參數】
分辨率：0.8nm@30kV STEM 、0.8nm @15 kV 、1.4 nm @1kV
放大倍數：10-1,000,000×
加速電壓：調整范圍：0.02-30 kV（無需減速模式實現）
探針電流： 3pA～20nA（100nA選配）  穩定性優于 0.2%/h
低真空范圍：2-133Pa（Sigma 500VP可用）
樣品室： 358 mm（φ），270.5 mm（h）
樣品臺：5軸優中心全自動 X＝130mm Y＝130mm Z＝50mm T＝-4°－70° R＝360°
系統控制：基于Windows 7的SmartSEM操作系統，可選鼠標、鍵盤、控制面板控制
存儲分辨率：32k x 24k pixels

【產品應用】   

掃描電鏡廣泛用于材料科學（金屬材料、非金屬材料、納米材料）、冶金、生物學、醫學、半導體材料與器件、地質勘探、病蟲害的防治、災害（火災、失效分析）鑒定、刑事偵察、寶石鑒定、工業生產中的產品質量鑒定及生產工藝控制等。在材料科學、金屬材料、陶瓷材料半導體材料、化學材料等領域，進行材料的微觀形貌、組織、成分分析。各種材料的形貌組織觀察，材料斷口分析和失效分析，材料實時微區成分分析，元素定量、定性成分分析，快速的多元素面掃描和線掃描分布測量，晶體/晶粒的相鑒定，晶粒尺寸、形狀分析，晶體、晶粒取向測量。

【總體描述】

蔡司公司推出的Sigma 500場發射掃描電鏡采用成熟的GEMINI光學系統設計，分辨率超過0.8nm，為您提供分辨率和分析性能科研平臺。Sigma500專注于的EDS幾何學設計使您可以獲取*的分析性能。借助Sigma直觀便捷的四步工作流程可以快速成像、簡化分析程序、提高工作效率。您會比以往更快、更多的獲取數據。多種探測器的選擇使Sigma500可以精準的匹配您的應用程序：您可以獲取微小粒子、表面、納米結構、薄膜、涂層和多層的圖像信息。