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VKDL系列 低溫冷卻液循環泵(機)

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低溫冷卻液循環泵(機)
 
  
★可*按照用戶的要求設計生產非標

應用領域:
◆生化領域:旋轉蒸發儀、阿貝折光儀、旋光儀、原子吸收、ICP-MS、ICP、核磁共振、CCD、生物發酵罐、化學反應器等
◆醫療領域:超導磁共振、直線加速器、CT、低磁場核磁共振、X光機、*機、科研冷帽、降溫毯等
◆物化領域:激光器、磁場、各種分子泵、擴散泵、離子泵以及包括材料領域使用的各種需水冷設備
◆材料領域:電鏡、X射線衍射、X熒光、真空濺射電鍍、真空鍍膜機、ICP刻蝕、各種半導體設備、 疲勞試驗機、 化學沉積系統、原子沉積系統等
 
用途范圍:
本系列產品是采取機械形式制冷的低溫液體循環設備,具有提供低溫液體、低溫水浴的作用。可供旋轉蒸發器、真空冷凍干燥箱、循環水式真空泵、紫外分光光度計、磁力攪拌器等儀器的循環制冷,進行多功能低溫下的化學反應、生物反應、藥物反應等
 
主要特點:
◎全封閉無氟環保壓縮機制冷系統,具有過熱、過流等多重保護
◎進口微機智能控制,大屏幕高亮液晶屏,中英文對照顯示,可設置0~100小時定時關機
◎具有微機軟件鎖功能;所有操作在微機觸摸軟鍵上進行
◎內膽和臺面采用優質S304拉絲面板不銹鋼
◎溫度范圍:可選-50~室溫(介質根據溫度范圍選純水、乙二醇、酒精)
◎前面板和臺面人性化R圓角設計結構,避免劃傷
◎外循環功能:離心噴流循環泵可以把槽內被恒溫液體外引,建立第二恒溫場,控制機外部實驗容器
◎內循環功能:采用無熱量離心循環泵,避免傳統水泵因自身產熱而影響槽體溫場。內循環系統為多孔U型回流循環原理設計,實現了槽體內流場和溫度場的紊流和高度均勻
◎槽內冷液可外引冷卻機外實驗容器,也可在槽內直接進行低溫、恒溫實驗
◎放水系統可滿足各類實驗室及企業生產換液
◎立式標配有萬向輪底腳
◎安全保護裝置:1.具有斷電保護功能
            2.具有上下限溫度報警設定功能
            3.低水位保護和報警功能
            4.溫度失控保護和報警功能  
            5.加熱管具有低水位防干燒、防爆功能
◎數顯分辨率:0.01℃
◎溫度波動值:±0.05℃
◎溫度范圍可選擇擴展到:-120~室溫

技術參數:

型 號低工作溫度(℃)冷槽容積(L)制冷量(W)  20℃時純水恒溫精度(℃)泵流量(L/min)排水
VKDL-1005-105900±0.515
VKDL-1505-1551200±0.515
VKDL-2005-2051400±0.515
VKDL-3005-3051900±0.515
VKDL-4005-4051200±0.515
VKDL-1510-15101400±0.515
VKDL-2010-20101800±0.515
VKDL-3010-30102300±0.515
VKDL-4010-40103200±0.515
VKDL-1015-10152200±0.515
VKDL-2015-20152500±0.515
VKDL-3015-30153000±0.515
VKDL-1020-10202700±0.515
VKDL-2020-20203000±0.515
VKDL-3020-30203500±0.515
VKDL-4020-40204200±0.515
VKDL-1030-10303200±0.515
VKDL-2030-20303600±0.515
VKDL-3030-30304300±0.515
VKDL-4030-40305600±0.515
VKDL-1050-10504700±0.515
VKDL-2050-20505000±0.515
VKDL-3050-30505800±0.515
VKDL-4050-40506300±0.515
VKDL-10100-101004500±0.515
VKDL-20100-201009500±0.515
VKDL-30100-3010011000±0.515
VKDL-40100-4010013000±0.515
 
 可選配功能指南:
1.可選配加長外接式PT100溫度傳感器,可實時檢測和控制外循環時外部體系的溫度
2.可選配內置1~30段溫度控制程序,可進行自動程序控溫,實時顯示設定溫度-時間程序運行狀態
3.可選配RS232或RS485通訊接口,輕松連接上位機,帶有ModbusRTU通訊協議
4.可選配設計、安裝磁力攪拌系統,可把放入恒溫槽工作室內燒杯中的液態樣品直接進行磁  力攪拌,無需外接立式攪拌機,減少冗繁操作
5.可選配槽體內置的冷卻盤管,對系統的放熱反應進行快速的降溫和控制
6.可選配高度可調浸入式載物平臺,輕松調節浸入樣品的液面高度
7.可選配臥式造型,具有結構緊湊、重心降低、穩定性強等特點


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