真空光纖饋通法蘭真空室導光半導體應用
VFT光纖過真空裝置可以將光導入或導出真空室，以實現超高真空的應用場合，例如半導體處理的光學監測和薄膜吸附的*終檢測。

VFT光纖過真空裝置可以將光導入或導出真空室，以實現超高真空的應用場合，例如半導體處理的光學監測和薄膜吸附的*終檢測。采用VFT光纖過真空裝置可以檢測真空環境下，樣品的透射/吸收，以及熒光反射等光學反應！ 真空光纖饋通法蘭真空室導光半導體應用

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在隔空箱和高壓應用場合下有較好的表現，真空度高達*大10 ^-7 mbar ，操作溫度高達300℃，真空室壁厚5-40mm，玻璃或金屬封口光纖使性能表現提高，VFT光纖過真空裝置使用牢固的金屬－玻璃封口膠，使VFT在超高真空應用場合的表現得到提高。

VFT光纖過真空裝置除了在半導體和薄膜處理方面的應用，還是環境檢測、藥*學處理和光學涂層生產的理想工具。它還可以應用在分子束外延和化學物理的蒸汽吸附方面，可以作為配合隔空箱、手套箱和中壓裝置的性能優異的通管。 真空光纖饋通法蘭真空室導光半導體應用

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VFT光纖過真空裝置的光纖直徑有50μm、100μm、200μm、400μm、600μm和1000 μm可選；波長可選UV200~1100nm和IR400~2500nm，可選配SMA905或者FC接頭。

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