μMLA是桌面式激光直寫的新技術，在科研微結構的應用領域中是一臺適合入門級的工具。μMLA具有靈活性和可定制性，可支持小至毫米大小范圍的樣品。

μMLA原理：

利用強度可變的激光束對基片表面的抗蝕材料實施變劑量曝光，顯影后便在抗蝕層表面形成要求的圖形。

μMLA具有以下優點：

? 分辨率高

? 無掩模光刻

? 靈活性與可定制性

? 可以設定多樣的實驗條件

主要功能

? 光柵掃描曝光

? 快速曝光復雜的圖形

? 灰度光刻

技術能力

? 基板尺寸：從5毫米到5英寸

? 特征尺寸：低至0.6 µm

? 寫入速度（4 µm分辨率）：200 mm 2 / min

? 實時自動對焦系統

? 正面對準

? 易于使用的操作軟件

? 2種可用的光學設置

? 曝光模塊選擇：光柵和/或矢量掃描

? 可變分辨率

? 繪畫模式

? 波長（光柵掃描）：390 nm或365 nm曝光波長

? 波長（矢量掃描）：405 nm和/或375 nm

? 廣角攝像機，用于對準和檢查

應用

半導體芯片、微機電、微流體、微光學、掩模版及其他有微納米結構需求的領域。