適用于1Xnm級開發以及22nm級量產流程的測長SEM CG5000CG5000革新了運送類系統，并通過對電子光學技術及圖像處理技術的改良，實現了有史以來（注1）的分辨率，處理能力，測長再現性。并且該系統還強化了自動校準功能，提供了長期穩定的運行率。另外，CG5000采用新測長技術及應用，可應用于使用新流程/新材料時所面臨的測長課題，也可全面適用于1Xnm級設備的開發。（注1）自1984年日立的FEB測長裝置S-6000問世以來，公司內部設備相比較而言
適用于1Xnm級開發以及22nm級量產流程的測長SEM CG5000
CG5000革新了運送類系統，并通過對電子光學技術及圖像處理技術的改良，實現了有史以來（注1）的分辨率，處理能力，測長再現性。并且該系統還強化了自動校準功能，提供了長期穩定的運行率。
另外，CG5000采用新測長技術及應用，可應用于使用新流程/新材料時所面臨的測長課題，也可全面適用于1Xnm級設備的開發。
（注1）自1984年日立的FEB測長裝置S-6000問世以來，公司內部設備相比較而言
高生產性
此裝置革新了運送機器的結構構成（包括裝、卸部件以及平臺速度和停止精度的提高），實現AF的高速化，通過可變像素實現測長區域的化，從而縮短MAM時間，與以往相比，提高了約40%的處理能力。
高分辨率
此裝置通過改良電子光學技術及圖像處理技術（降噪，改善邊緣銳度，圖像內部暗部強調），改善了Image Sharpness。
長期穩定性
基于設計數據的計量系統
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