PHI X-tool是一款操作簡單，同時具備高效高能的XPS。其秉承PHI-XPS的掃描聚焦X-ray系統，可通過單色化石英晶體叫X-ray直接聚焦至20μm。和傳統的XPS相比，不采用光闌進行選區，極大的提高了XPS在200μm以下空間尺度的靈敏度。同時，不需要增加磁透鏡，即可得到**的靈敏度及**的信噪比，即使磁性樣品，也可輕松應對。

性能特點

**的操作性

PHI X-tool軟件支持直觀的觸摸屏操作，所有XPS測定過程都可在觸摸屏上完成。用戶可以自由選擇手動操作模式和自動操作模式（自動定性、定量、分析及完成報告），操作者無論是否具有豐富的XPS操作經驗，均能輕松應對。
自動參數設定、自動完成報告

PHI X-tool具備自動對焦功能（Auto-Z），使分析位置處于X射線的焦平面上，得到**的分析條件。其可實現中和參數的自動匹配，無論樣品的導電性如何，均可輕松應對。
自動定性：實現譜峰自動識別
自動定量：自動選定譜峰定量范圍
自動曲線擬合：可自動實現預定條件的曲線擬合
自動生成實驗報告
多方式樣品觀察

在XPS分析中，樣品觀察，特別是微區定位至關重要。PHI X-tool可通過以下三種方式進行樣品觀察：a. 進樣室高空間分辨率圖像；b. 實時CCD成像；c. 二次電子像（SXI）。利用這幾種方法觀察樣品，不論樣品大小，表面形貌如何均可輕松確定測試位置。
詳細的條件設定和直觀的操作

結合材料和目的，可詳細設定分析的條件。通過內置元素周期表，可設定各光電子峰和俄歇峰。通過更改通過能、步長、積分時間設定窄譜掃描參數。對每個樣品可設置習慣的文件名和樣品名稱。
快速化學成像

采用掃描X射線和高靈敏度檢測器及非掃描模式，可實現快速成像分析。每個點都可以直接調取全部的譜數據。化學態成像的空間分辨率、靈敏度、能量分辨率與儀器主指標一致。
采用PHI的***硬件設計

微聚焦掃描X-ray源；
雙束中和系統，低能離子束及低能電子束自動配合；
浮動離子*，離子加速電壓條件范圍可達0~5kV

應用領域

Micro-Electronics 微電子, 電子封裝
Polymer 高份子材料
Tribology 摩擦學
Magnetic 磁性材料, 硬盤, 藍光光盤
Display Industries 顯示工業
Graphene 石墨稀
Catalysis 催化劑
Energy related 能源產業
Glass 玻璃
Metal 金屬
Ceramic 陶瓷
Semi-conductors 半導體
Bio-Medical 生醫科學