詳情介紹
品牌 | 自營(yíng)品牌 | 儀器種類(lèi) | 實(shí)驗(yàn)室 |
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產(chǎn)地類(lèi)別 | 國(guó)產(chǎn) | 價(jià)格區(qū)間 | 面議 |
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適用行業(yè) | 高純氣體分析專(zhuān)用 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 化工,電子 |
色譜分析一直以來(lái)都是氣體質(zhì)量控制的重要手段之一,但對(duì)5N及5N以上純度的高純、超純氣體和高純度的電子工業(yè)用氣體等樣品的分析卻是色譜分析的難點(diǎn),不僅樣品中需要檢測(cè)的雜質(zhì)種類(lèi)繁多且含量極低,而且空分產(chǎn)品中的雜質(zhì)容易被空氣組分污染需要長(zhǎng)時(shí)間的吹掃置換,電子工業(yè)用氣體存在易吸附、腐蝕性、遇水結(jié)晶、遇水改變特性等諸多特征。
LX-3200-PDD氦離子化氣相色譜儀因應(yīng)上述問(wèn)題而開(kāi)發(fā),產(chǎn)品采用全新的工業(yè)設(shè)計(jì),配備擁有超高靈敏度的脈沖放電氦離子化檢測(cè)器,將待檢組分的響應(yīng)提升至ng/g級(jí)(10-9);采用超低泄露率的卡套或VCR接頭連接帶有吹掃保護(hù)氣路的進(jìn)樣閥,將樣品與空氣有效隔離,避免空氣污染;真空負(fù)壓取樣系統(tǒng)大大減少樣品的置換次數(shù)的同時(shí),也可以避免電子工業(yè)用氣體中的Sicl4、HF、SiH4遇水的輻射性及結(jié)晶;EP級(jí)管路及經(jīng)特殊處理的色譜柱擔(dān)體等技術(shù)的應(yīng)用,避免了樣品吸附對(duì)分析的影響。
LX-3200-PDD氦離子化氣相色譜儀采用由多個(gè)吹掃型進(jìn)樣閥及多根色譜柱組成的多閥多柱的中心切割與反吹分離技術(shù),通過(guò)色譜工作站設(shè)置的時(shí)間程序自動(dòng)控制其進(jìn)樣、切換、切割與反吹等過(guò)程,一臺(tái)儀器就可以實(shí)現(xiàn)對(duì)高純氮、高純氬、高純氧、高純氦、高純氫、高純二氧化碳、氪氣、氙氣、氖氣等空分高純氣體的分析;也可以針對(duì)三氟化氮、六氟化硫、六氟化鎢、三氯化硼、、磷硼砷硅鍺烷等電子工業(yè)用氣體制定特定的分析方案。
典型分析:
一、空分(ASU)行業(yè)
1、高純O2、N2、Ar中雜質(zhì)(H2/O2/N2/Ar/CH4/CO/CO2)分析;
2、液O2液Air中烴類(lèi)物質(zhì)(C2H2、N2O、THC、C1-C4)分析;
3、稀有氣體He、Ne、Kr、Xe中雜質(zhì)(N2/O2+Ar/H2/CO/CO2/CH4/Kr/Xe/N2O/C2F6/CF4/SF6)分析;
二、特種氣、電子氣行業(yè)
1、H2中雜質(zhì)(N2/O2+Ar/CO/CO2/CH4)分析,
2、腐蝕性氣體:Cl2、HCl、HBr、NH3、SiH4、SiHCl3、SiH2Cl2、AsH3、PH3、GeH4、BF3、BCl3、NF3、WF6等
3、鹵化物:C3F8、C4F8、SF6、NF3、CF4、C2F6等
4、CO2、H2、He
5、氦離子化檢測(cè)器(PDHID)
檢測(cè)器是一個(gè)無(wú)破壞性(0.01~0.1%電離)和高靈敏的非放射性檢測(cè)器。其檢測(cè)限在皮克數(shù)量級(jí)范圍,對(duì)幾乎所有無(wú)機(jī)和有機(jī)化合物均有很高的響應(yīng)。
He+e-®He++2e-
®He2*
®2He+hv(12-21eV)
+A®A++e-
脈沖放電氦離子化檢測(cè)器(PDHID)優(yōu)點(diǎn):
1、基線(xiàn)及響應(yīng)穩(wěn)定、檢測(cè)器壽命長(zhǎng);
2、同一PDHID可運(yùn)行不同的模式;
3、高靈敏度;
4、寬線(xiàn)性范圍;
5、不用放射性物質(zhì),不用氫氣;
6、工作溫度可達(dá)400℃;
7、對(duì)樣品沒(méi)破壞性;
8、結(jié)構(gòu)結(jié)實(shí),不用特殊維護(hù)。
類(lèi)別 | H2 | O2+Ar | N2 | CH4 | CO | CO2 | N2O |
檢測(cè)限 | 5ppb | 10ppb | 10ppb | 5ppb | 25ppb | 5ppb | 10ppb |
類(lèi)別 | C2H2 | C2H4 | C2H6 | C3H8 | C3H6 | C4H10 | C4H8 |
檢測(cè)限 | 10ppb | 10ppb | 10ppb | 10ppb | 10ppb | 10ppb | 10ppb |