XU-100光譜測厚儀采用下照式C型腔體設計，搭配微聚焦X射線發生器和高集成垂直光路系統，以及高敏變焦測距裝置，對各種大小異形件都可快速、精準、無損測量

XU-100光譜測厚儀采用下照式C型腔體設計，搭配微聚焦X射線發生器和高集成垂直光路系統，以及高敏變焦測距裝置，對各種大小異形件都可快速、精準、無損測量。?檢測各種金屬鍍層，檢出限可達0.005μm，最小測量面積0.2mm²，凹槽深度測量范圍可達0-30mm，是一款測量鍍層厚度性價比高、適用性強的機型。

1.下照式設計?

可以快速方便地定位對焦樣品。?

2.高精密微型移動滑軌

快速精準定位樣品。

3.?微焦X射線裝置

?最小檢測面積可達0.2mm²的樣品，可進行各類電鍍層膜厚檢測。?

高效率正比接收器即使測試0.2mm²的樣品，幾秒鐘也能達到穩定性。

4.?變焦裝置算法

?可對各種異形凹槽進行檢測，凹槽深度測量范圍可達0-30mm。?

5.的EFP算法

?多層多元素，包括有同種元素在不同涂鍍層的檢測，都可以快、準、穩的做出數據分析。