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返回產品中心>1. 非接觸晶圓厚度測量系統(tǒng),晶圓規(guī)格可支持至 12 寸;2. 采用色散共聚焦技術,可進行單層、多層、帶膜晶圓等產品的厚度、TTV 翹曲、BOW、輪廓分析、粗糙度等的關鍵尺寸的測量;
1. 非接觸晶圓厚度測量系統(tǒng),晶圓規(guī)格可支持至 12 寸;
2. 采用色散共聚焦技術,可進行單層、多層、帶膜晶圓等產品的厚度、TTV 翹曲、BOW、輪廓分析、粗糙度等的關鍵尺寸的測量;
3. 半自動系統(tǒng),使用多個晶圓固定裝置與計算機控制的 XYZ 軸;
4. 晶圓的厚度測量范圍為 5um 至 24mm;
5. 支持用戶自定義制定測量程序,測量路徑可采樣固定樣式的路徑也可以隨意,比能保存整個測量過程,同類樣品,可直接復用;
6.支持多種測量模式:單點測量、線掃測量、面掃測量等,通過線掃或面掃測量可有效濾除零件表面粗糙度對測量結果的影響。
7. 多種測量結果呈現(xiàn)形式(表格,2D 繪圖,3D 偽彩圖);
8. 可選配視覺引導模組,進行晶圓 MAP 圖的建立及精準的測量點位規(guī)劃(適用于有圖晶圓)
9. 可選配圖像尺寸測量模塊,進行平面尺寸測量;
10. 可選配白光干涉測量模塊,進行納米級的粗糙度和 3D 形貌測量;
11.支持 SECS/GEM 標準通訊協(xié)議;
晶圓測厚模塊 | 粗糙度模塊 | 輪廓測量模塊 |
厚度測量 | 平面度測量 | ||
精度 | 0.5um | 范圍 | 0-1000um |
分辨率 | 0.1um | 分辨率 | 1um |
精度 | 3um±1% | ||
粗糙度測量:測量范圍 Ra (0.025um~50um)(注:需單獨增加粗糙度測量模組)翹曲具備自動計算翹曲 |
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