新的光學系統令 ECLIPSE煥發新風采
ECLIPSE 顯微鏡機身采用模塊化制造，可滿足多領域的工業應用，其中包括半導體器件、封裝、FPD、電子器件、材料和精密模具制造等。
ECLIPSE LV 系列經過不斷的發展完善并配備了新的光學系統和功能，可根據觀察方法和目的 選擇支架裝置和照明裝置以滿足多種觀察需求。
用戶可以選擇使用電動和手動操控模式以及反射照明專用模式和反射／透射組合照明模式以便滿足任何應用需求。

CFI60-2 經過改進的光學性能

以的高數值孔徑和長工作距離設計理念而著稱的尼康 CFI60 光學系統；

經過進一步改進，具有的長工作距離、色差校正性能和更輕的重量。

輕松的操作 與數碼相機集成

現在可以使用數碼控制裝置來檢測包括物鏡信息在內的顯微鏡信息，以及對顯微鏡進行電動操作，以更高效地進行觀察和圖像拍攝。

特點：

觀察方法

可支持多種觀察方法：明場、暗場、偏光、微分干涉、落射熒光和雙光束干涉測量等。

半導體（IC晶片）

從物鏡到照明系統，LV-N系列采取了的防眩光措施，確保生成明亮、高對比度的圖像。

半導體（IC晶片）

采用尼康設計理念開發的物鏡暗場照明系統可實現明亮的暗場觀察，從而可對標本差異和缺陷進行高靈敏度的檢測。

基板

可使用適合標本觀察的標準型和高對比度型DIC插片。LV-N系列十分適合觀察設備和精密模具中的細微差異等應用。

基板（焊點）

LV-N系列在觀察有機EL或安裝的基板等具有熒光性質的標本時表現出了的性能。

礦物質

LV-N系列十分適合觀察具有雙折射性質的標本，例如：容易失真的液晶或塑料/玻璃等。

云母

LV-N系列可使用Michelson(TI)和Mirau(DI)反射型雙光束干涉測量法。當配合使用測微計目鏡時，可在不接觸標本的情況下檢測和測量標本的細微差異。