EH100膜厚儀是應用于工業和科研領域中薄膜厚度常規測量的經濟型解決方案，儀器一鍵操作極其簡單，可測量1nm–250um的透明或半透明薄膜，一次測量1秒內完成

EH100 膜厚儀是應用于工業和科研領域中薄膜厚度常規測量的經濟型解決方案，儀 器一鍵操作極其簡單，可測量 1nm –250um 的透明或半透明薄膜，一次測量 1 秒內完成。 EH100 膜厚儀基于白光干涉反射光譜的測量原理， 即寬光譜光波 0°垂直入射到樣品表面，在樣品基底 和膜層之間發生干涉，反射光波由高靈敏度光譜陣列 探測單元接收，采用專用軟件對光波的光譜反射率進 行分析，得到樣品鍍層的膜厚信息。進一步，還可以 通過分析得到膜層的其它物理信息（如，折射率、消 光系數），光譜范圍可覆蓋從紫外到近紅外。 EH100 膜厚儀主要用于光面基底上的透明、半透 明薄膜樣品進行常規測量，可得到單層或少數多層薄 膜的膜厚，也可以得到薄膜的光學參數（如，折射率 n、消光系數 k）。此外，也可以用 于粗糙表面上膜厚的測量。