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SD-900型離子濺射儀是采用二級（DC）直流濺射原理設計而成的離子濺射鍍膜設備
SD-900型離子濺射儀是采用二級（DC）直流濺射原理設計而成的離子濺射鍍膜設備。二極（DC）直流濺射是一種、可靠、經濟的鍍膜技術，是許多廠商提供的離子濺射儀的基礎。
V技術規格說明
樣品倉尺寸 | φ150mm h120mm |
樣品臺 | 可放置1 2 個標準SEM樣品座，高度可在 |
上部電極 | 靶直徑5 0 mm，厚度0 .1mm |
濺射控制 | 電流5 0mA |
濺射面積 | φ5 0mm |
真空度 | ≤4×10-2mbar |
靶材 | 金靶、銀靶、 鉑靶 |
濺射速率 | 優于5nm/min (金靶） |
工作電壓 | 220V, 50HZ |
輸出電壓 | -1600V |
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