產品概述科研級明暗場正置金相顯微鏡XJ-54C配有超大移動范圍的載物臺，落射照明器、無限遠明暗場長距平場物鏡和大視野目鏡的配置

產品概述

科研級明暗場正置金相顯微鏡XJ-54C配有超大移動范圍的載物臺，落射照明器、無限遠明暗場長距平場物鏡和大視野目鏡的配置。具有外形美觀，圖像清晰度高、操作方便等特點，同時配有暗場裝置及偏光裝置，可實現暗場和偏光觀察，是一款多功能工業檢測顯微鏡。適用于薄片試樣的金相、礦相、晶體、硅片、電路基板、FPD等結構分析和研究，或用于觀察材料表面特性，如：劃痕、裂紋、噴涂的均勻性等分析研究。是金屬學、礦物學、工程學、電子學、半導體工業、硅片制造業、電子信息產業等觀察研究的理想儀器。總放大倍數：50X-500X

性能特點：

1、采用了較為的無限遠光路設計，提供了優良的光學系統。

2、配置了偏光、暗場裝置、可選配微分干涉裝置，拓展了功能。

3、系統配置了大尺寸、大范圍移動載物臺，適合大工件的檢查。

4、采用大視野目鏡和明暗場長距平場物鏡，視場平坦,成像清晰。

5、整機采用了防霉處理，保護了鏡頭，延長了儀器的使用壽命。

典型應用：

1、電子工業制造業對硅片、電路基板、FPD、PCB板、芯片檢驗。

2、觀察材料表面的某些特性，

3、分析金屬、礦相內部結構組織。