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簡介：CVI-1700系統由SGL-1700L真空管式爐，HQZ-Ⅳ混氣系統，真空壓強控制系統，尾氣冷凝收集處理系統等組成。真空泵采進口抗腐蝕隔膜真空泵，真空度可達到7.5x10-1Torr；可實現多路...

簡介：CVI-1700系統由SGL-1700L真空管式爐，HQZ-Ⅳ混氣系統，真空壓強控制系統，尾氣冷凝收集處理系統等組成。真空泵采進口抗腐蝕隔膜真空泵，真空度可達到7.5x10-1Torr；可實現多路...

簡介：PECVD開啟式管式爐系統在真空壓力下，加在電感線圈的射頻電場，使反應室氣體發生輝光放電，在輝光發電區域產生大量的電子。這些電子在電場的作用下獲得充足的能量，其本身溫度很高，它與氣體分子相碰撞，使...

簡介：PECVD開啟式管式爐系統在真空壓力下，加在電感線圈的射頻電場，使反應室氣體發生輝光放電，在輝光發電區域產生大量的電子。這些電子在電場的作用下獲得充足的能量，其本身溫度很高，它與氣體分子相碰撞，使...

簡介：實驗電爐PECVD系統主要用于高校、科研院所用于真空鍍膜、納米薄膜材料制備，生長薄膜石墨烯，金屬薄膜，陶瓷薄膜，復合薄膜等，也可作為擴展等離子清洗刻蝕使用。

簡介：實驗電爐PECVD系統主要用于高校、科研院所用于真空鍍膜、納米薄膜材料制備，生長薄膜石墨烯，金屬薄膜，陶瓷薄膜，復合薄膜等，也可作為擴展等離子清洗刻蝕使用。

簡介：氣簾密封式連續走絲沉積爐（碳纖維制備爐）產品參數正在更新中

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簡介：石墨烯生長爐由滑動開啟式真空管式爐，混氣系統，真空及壓力系統等組成。通過滑動爐體來實現快速的升降溫；配置不同的真空系統來達到理想的真空度；同時通過三路高精度質量流量計控制不同氣體。

簡介：石墨烯生長爐由滑動開啟式真空管式爐，混氣系統，真空及壓力系統等組成。通過滑動爐體來實現快速的升降溫；配置不同的真空系統來達到理想的真空度；同時通過三路高精度質量流量計控制不同氣體。

簡介：1200℃氫氣管式爐是專門針對于材料在氫氣環境下進行燒結爐。氫氣進口采用電磁閥與針閥做雙重保護，配備氫氣探測器監測實驗環境的安全性，如實驗環境氫氣濃度達到探測設定值就關閉進氣電磁閥及加熱系統電源，...

簡介：1200℃氫氣管式爐是專門針對于材料在氫氣環境下進行燒結爐。氫氣進口采用電磁閥與針閥做雙重保護，配備氫氣探測器監測實驗環境的安全性，如實驗環境氫氣濃度達到探測設定值就關閉進氣電磁閥及加熱系統電源，...

簡介：1000℃真空氣氛攪拌爐是我所研發改進的新款產品，可在高真空或在氣氛環境下對物料進行攪拌，滿足客戶的實驗要求；本款產品集成了升降攪拌系統，磁力密封系統，溫控系統，混氣系統，真空系統等，可通過控制按...

簡介：1000℃真空氣氛攪拌爐是我所研發改進的新款產品，可在高真空或在氣氛環境下對物料進行攪拌，滿足客戶的實驗要求；本款產品集成了升降攪拌系統，磁力密封系統，溫控系統，混氣系統，真空系統等，可通過控制按...

簡介：1100℃高真空氣氛爐以摻鉬電阻絲為加熱元件，采用雙層殼體結構和智能化控溫系統，可控硅控制,控溫精度高；內膽采用耐溫、耐壓合金材料；爐門配有循環水冷，保證爐門與爐膽的可靠密封；可選配真空裝置，可以...

簡介：1100℃高真空氣氛爐以摻鉬電阻絲為加熱元件，采用雙層殼體結構和智能化控溫系統，可控硅控制,控溫精度高；內膽采用耐溫、耐壓合金材料；爐門配有循環水冷，保證爐門與爐膽的可靠密封；可選配真空裝置，可以...

簡介：真空氣氛爐是我公司研發的功能強大的真空氣氛爐，集成了加熱系統、真空系統、電氣控制系統、溫度及真空監測系統等，7寸觸摸屏智能化系統，可實現一鍵操作智能化控制。主要應用于金屬材料在高真空，高溫條件下進...

簡介：真空氣氛爐是我公司研發的功能強大的真空氣氛爐，集成了加熱系統、真空系統、電氣控制系統、溫度及真空監測系統等，7寸觸摸屏智能化系統，可實現一鍵操作智能化控制。主要應用于金屬材料在高真空，高溫條件下進...

簡介：CVD-1200系統由滑動式開啟式真空管式爐，混氣系統，真空及壓力系統等組成。此系統燒結溫度可達1200℃，通過滑動爐體來實現快速的升降溫；配置不同的真空系統來達到理想的真空度；同時通過三路高精度...

簡介：CVD-1200系統由滑動式開啟式真空管式爐，混氣系統，真空及壓力系統等組成。此系統燒結溫度可達1200℃，通過滑動爐體來實現快速的升降溫；配置不同的真空系統來達到理想的真空度；同時通過三路高精度...