產品簡介：GSL-1100X-SPC-16M磁控濺射鍍膜儀是依據二極（DC）直流濺射原理（二極濺射鍍膜是指在真空環境中利用粒子轟擊靶材產生的濺射效應，使得靶材原子或分子從固體表面射出，在基片上沉積形成薄膜的過程。屬于物理氣相沉積（PVD）制備薄膜技術的一種。）設計而成的簡單、可靠、經濟的鍍膜設備，適用于實驗室各種復合膜樣品的制備，以及非導體材料實驗電極的制作。GSL-1100X-SPC-16M磁控濺射鍍膜儀可用于實驗室制備掃描電鏡樣品使用，且設備體積小巧，節約實驗室空間；操作簡單，適合初學人員使用。
| 產品名稱 | GSL-1100X-SPC-16M磁控濺射鍍膜儀 | ||
| 產品型號 | GSL-1100X-SPC-16M | ||
| 安裝條件 | 本設備要求在海拔1000m以下，溫度25℃±15℃，濕度55%Rh±10%Rh下使用。 1、水：設備需選配自循環冷卻水機（加注純凈水或者去離子水） 2、電：AC220V 50Hz，必須有良好接地 3、氣：設備腔室內需充注氬氣（純度99.99%以上），需自備氬氣氣瓶（帶減壓閥） 4、工作臺：尺寸600mm×600mm×700mm，承重50kg以上 5、通風裝置：不需要 | ||
| 主要特點 | 1、設有真空表、濺射電流表，可實時監控工作狀態。 2、通過調節濺射電流控制器、微型真空氣閥，控制真空室壓強、電離電流及選擇所需要的電離氣體，以獲得鍍膜效果。 3、鐘罩邊緣橡膠密封圈采用特殊設計，可保證長期使用不出現玻璃鐘罩崩邊現象。 4、陶瓷密封高壓電極接頭比通常采用的橡膠密封更經久耐用。 5、根據電場中氣體電離特性，采用大容量濺射真空室和相應面積濺射靶，使濺射鍍層更均勻純凈。 6、濺射頭采用Peltier制冷技術，可得到高性能、精細顆粒的涂層。 7、可用水冷濺射頭、水冷載物臺。 | ||
| 技術參數 | 1、靶：Ø50mm 2、真空室：Ø160mm×120mm 3、真空度：≤4×10-2mbar 4、max電流：50mA（可選100mA） 5、可設定極限時間：9999s 6、微型真空氣閥：連接Ø3mm軟管 7、極限電壓：1600V DC 8、機械泵：2L/s | ||
| 產品規格 | 尺寸：360mm×300mm×380mm。 整體重量：50Kg 主機凈重：15Kg | ||
| 標準配件 | 1 | 金靶材 | 1個 |
| 2 | 進氣針閥 | 1個 | |
| 3 | 保險絲 | 2個 | |
| 可選配件 | 金、銦、銀、鉑等各種靶材 | ||
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