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簡介：上海伯東代理美國進口KRI考夫曼離子源KDC100中型規格柵極離子源,廣泛加裝在薄膜沉積大批量生產設備中,考夫曼離子源KDC100采用雙陰極燈絲和自對準柵極,標準配置下離子能量范圍100至1200...

簡介：上海伯東代理美國進口KRI考夫曼離子源KDC160是目前考夫曼KDC系列zui大,離子能量zui強的柵極離子源,適用于已知的所有離子源應用,離子源KDC160高輸出設計,zui大電流超過1000m...

簡介：上海伯東代理美國進口KRI霍爾離子源eH200是霍爾離子源型eH系列中尺寸最小,低成本設計離子源.霍爾離子源eH200適用于小型真空腔內,例如研發分析,薄膜沉積和離子清洗.霍爾離子源eH200操作...

簡介：上海伯東代理美國進口KRI線性離子源使用eH400做為模組,能應用于寬范圍的襯底,離子源長度高達1米,通過嚴格調整模組間的距離可以實現更佳的均勻性和離子流.由于模組是平行放置,大大簡化了氣體,功率...

簡介：上海伯東代理美國進口KRI射頻離子源RFICP40:目前KRI射頻離子源RFICP系列尺寸最小,低成本高效離子源.適用于集成在小型的真空腔體內.離子源RFICP40設計采用創新的柵極技術用于研發和...

簡介：上海伯東代理美國進口KRI霍爾離子源eH3000適合大型真空系統,與友廠大功率離子源對比,eH3000是目前市場上高效,提供更高離子束流的離子源.

簡介：上海伯東代理美國進口KRI霍爾離子源eH1000,低成本設計提供高離子電流,特別適合中型真空系統.通常應用于離子輔助鍍膜,預清洗和低能量離子蝕刻.

簡介：上海伯東代理美國進口KRI考夫曼型離子源RFICP100緊湊設計,適用于離子濺鍍和離子蝕刻.小尺寸設計但是可以輸出400mA離子流.考夫曼型離子源RFICP100源直徑19cm安裝在10”CF法蘭...

簡介：上海伯東代理美國進口KRI霍爾離子源eH2000是一款更強大的版本,帶有水冷方式,他具備eH1000所有的性能,低成本設計提供高離子電流,特別適合大中型真空系統.通常應用于離子輔助鍍膜,預清洗和低...

簡介：上海伯東代理美國進口KRI霍爾離子源eH400低成本設計提供高離子電流,霍爾離子源eH400尺寸和離子能量特別適合中小型的真空系統,可以控制較低的離子能量,通常應用于離子輔助鍍膜,預清洗和低能量離...