主要特點

• 噴霧熱解制膜法，是將溶液霧化后噴涂到加熱的基底上，然后在基底上得到想得到的物質(zhì)結(jié)構(gòu)。
• 此種材料制備方法　特別適用于沉積氧化物，而且在制備透明電極的應用中已有相當長的歷史。現(xiàn)在這種方法在制備鈣鈦礦型太陽能電　池中得廣泛應用。

參數(shù)

•   電源：220V  50Hz/60Hz
•   超聲波霧化器：50KHz  100W
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•   噴霧器在X軸和Y軸行程：1mm-200mm
•   噴霧器移動速度：X軸方向10mm/s-800mm/s，Y軸方向10mm/s-100mm/s
•   涂層間距：1mm-100mm
•   Z軸高度zui大調(diào)節(jié)量：60mm
•   加熱器平臺：350mm×220mm
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•  zui高可加熱溫度：500℃
•   標配注液器容積：20 ml
•   注液泵裝載：直徑不超過Φ30mm的注液器
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•   注液速度：0.1mm/min-45mm/min，微調(diào)速度0.01mm/min-8mm/min
•   行程設置范圍：0.001mm-120mm

產(chǎn)品規(guī)格

尺寸：主機1550mm×750mm×750mm，*250mm×225mm×170mm