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簡介:上海伯東代理美國進(jìn)口KRI射頻離子源RFICP40:目前KRI射頻離子源RFICP系列尺寸最小,低成本高效離子源.適用于集成在小型的真空腔體內(nèi).離子源RFICP40設(shè)計(jì)采用創(chuàng)新的柵極技術(shù)用于研發(fā)和...
伯東貿(mào)易(深圳)有限公司 產(chǎn)地:深圳市我要詢價(jià) -
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簡介:尺寸:直徑=5.7“高=5.5”放電電壓/電流:50-300V/10A或15A操作氣體:Ar,Xe,Kr,O2,N2,有機(jī)前體
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簡介:上海伯東代理美國進(jìn)口KRI考夫曼離子源KDC40:小型低成本直流柵極離子源.KDC40是3cm考夫曼型離子源升級(jí)款.具有更大的柵極,更堅(jiān)固,可以配置自對(duì)準(zhǔn)第三層?xùn)艠O.離子源KDC40適用于所有的離...
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簡介:上海伯東代理美國進(jìn)口KRI考夫曼離子源KDC10:考夫曼型離子源Gridded系列最小型號(hào)的離子源.適用于集成在小型的真空設(shè)備中,例如預(yù)清洗,離子濺射,離子蝕刻.在1000eV低能量,通Ar氬氣時(shí)...
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簡介:上海伯東代理美國進(jìn)口KRI考夫曼離子源KDC75:緊湊柵極離子源,離子束直徑14cm,可安裝在8“CF法蘭.適用于中小型腔內(nèi),考夫曼離子源KDC75包含2個(gè)陰極燈絲,其中一個(gè)作為備用,KDC75提...
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簡介:上海伯東代理美國KRI霍爾離子源eH400低成本設(shè)計(jì)提供高離子電流,霍爾離子源eH400尺寸和離子能量特別適合中小型的真空系統(tǒng),可以控制較低的離子能量,通常應(yīng)用于離子輔助鍍膜,預(yù)清洗和低能量離子蝕...
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簡介:霍爾離子源eH提供一套完整的方案包含離子源,電子中和器,電源供應(yīng)器,流量控制器MFC等等可以直接整合在各類真空設(shè)備中,例如鍍膜機(jī),loadlock,濺射系統(tǒng),卷繞鍍膜機(jī)等
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簡介:離子源廣泛用于離子清洗PC,離子蝕刻IBE,輔助鍍膜IBAD,離子濺射鍍膜IBSD領(lǐng)域,上海伯東是美國考夫曼離子源中國總代理.
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簡介:上海伯東美國KRI射頻離子源RFICP系列,無需燈絲提供高能量,低濃度的離子束,通過柵極控制離子束的能量和方向,單次工藝時(shí)間更長!射頻源RFICP系列提供完整的套裝,套裝包含離子源本體,電子供應(yīng)器...
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